概述
晶体管级的功率降低优化
工艺进步会引起功耗降低这是必然的
1.布局优化
直连的模块,或者说数据输入输出比较复杂的模块应该处于硅上非常接近的位置,因为走线的长度会引起不必要的功耗,甚至是时序上的不可靠性,走线延时会明显影响时序性能,甚至出书Slack。
2.衬底偏压
泄露电流是Vth的函数,适当的提高反向偏置电压或者提高晶体管的阈值就会减少泄漏电流,从而降低静态功耗。
设计Vth动态变换的电压模式,在比较活跃的状态下,反向偏置较小,而在待机状态下反向偏置较高,这就涉及到低功耗一所述的不同阈值期间,活动性小的,翻转性小的电流上功耗低,翻转性大的阈值电压设为高,防止泄漏电流。
3.减小氧化层厚度
栅极和沟道之间的绝缘体氧化物应该尽可能的薄,从而增加沟道导电性能,并在晶体管断开时减少亚阈值泄露,当然如果太薄也不可以,如果太薄了就会导致量子隧穿效应,从而增加功耗。
4.减小电容
:扇出门输入电容。
:走线电容。
:寄生电容。
最后
以上就是笨笨大叔为你收集整理的低功耗设计(三)的全部内容,希望文章能够帮你解决低功耗设计(三)所遇到的程序开发问题。
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