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概述

目录

摘要 ..................................................................... 1

1实验 .................................................................... 3 2结果与讨论

2.1薄膜的结构与形貌 ..................................................... 3

2.2薄膜的电学和光学特性 ................................................. 5

3结论 ......................................................................................................................................... 8

Effects of Annealing on Properties of ZnO/Cu/ZnO

Transparent Conductive Film

李文英,钟建,张柯,汪元元,尹桂林,何丹农。

LiWen—ying1,ZHONG Jian2,ZHANG Ke2 WANG Yuan—yuan2,

YIN Gui一1in2.HE Dan—nong1’2

(1上海交通大学材料科学与工程学院,上海200240; 2纳米技术及应用国家工

程研究中心,上海200241) (1 School of Materials Science and

Engineering.Shanghai Jiao Tong University,Shanghai 200240,China;2 National Engineering Research Center for Nanotechnology,Shanghai 200241,

China)

摘要:室温下利用磁控溅射制备了ZnO/Cu/ZnO透明导电薄膜,采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)、霍尔效应测量仪和紫外一可见分光光度计研究了薄膜的结构、形貌、电学及光学等性能与退火温度之间的关系。结果表明:退火前后薄膜均具有ZnO(002)择优取向,随着退火温度的升高,薄膜的晶化程度、晶粒粒径及粗糙度增加,薄膜电阻率先降低后升高,光学透过率和禁带宽度先升高后降低。150。C下真空退火的ZnO/Cu/ZnO薄膜的性能最佳,最高可见光透光率为90.5%,电阻率为1.28×10-4Q·cIn,载流子浓度为4.10×1021 cm 。

关键词:退火;ZnO;Cu;透明导电薄膜

中图分类号:TN304;0484 文献标识码:A 文章编号:1001—4381(2015)01—0044

最后

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